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            • 等離子去膠
              等離子去膠

              等離子去膠工藝擁有低污染顆粒,低成本大規模量產,高均勻性與高可復制性等工藝特征。

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            • 微波等離子清洗機
              微波等離子清洗機

              微波等離子清洗機專為微電子表面清潔與改性設計,用于改善引線鍵合和芯片鍵合結合力,倒裝芯片填充不足等封裝制程,可用于處理各種電子材料,包括塑料、金屬或者玻璃等。

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            • 微流控缺陷檢測
              微流控缺陷檢測

              微流控缺陷檢測 nSpec Macro可以照亮樣品的整個面,或設置照明角度和/或離散照明矢量。 明場,暗場,正交和可配置的傾斜照明角度與可單獨配置的LED,配合使用可調節照明的強度,顏色和位置。

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            • 納米壓痕儀
              納米壓痕儀

              納米壓痕儀支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并可選擇背面對準。此外,該系統還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻(NIL)。

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            • EVG獲得用于晶圓級光學微透鏡制造的光刻和計量系統的訂單2022-03-16

              1.新聞簡介岱美儀器供應商EV集團(EVG)是面向MEMS,納米技術和半導體市場的晶圓鍵合機和光刻設備的領仙供應商,金天宣布已收到其制造設備和服務的權面組合產品組合的多個訂單,這些產品和服務旨在滿足對晶圓的新興需求,水平光學(WLO)和3D...
            • EVG在東京大學為化合物半導體研究安裝低溫等離子體活化系統2022-03-10

              EV集團(EVG,岱美儀器供應商)是面向MEMS,納米技術和半導體市場的晶圓鍵合和光刻設備的領仙供應商,今天宣布已收到東京大學的EVG810LT等離子活化訂單化合物半導體研究系統。EVG810LT安裝在大學的Takagi&Takenaka實...
            • 通過微波等離子清洗機處理后的工件有哪些提升?2022-03-10

              微波等離子清洗是用等離子體通過化學或物理作用對工件表面進行分子水平處理,去除沾污,改善表面性能的工藝過程。對應不同的污染物,應采用不同的清洗工藝。根據選擇的工藝氣體不同,分為化學清洗、物理清洗及物理化學清洗。目前有四種激勵電源頻率,分別是直...
            • EVG推出MLE無掩模曝光光刻技術2022-02-28

              1.介紹對電子設備性能和靈活性的新要求正在使制造基礎架構從傳統的基于掩模的光刻技術轉變為用于高級封裝和異構集成的數字光刻技術。片上系統正在從單片解決方案轉向封裝,小芯片和功能塊中的模塊化系統。因此,對于可擴展和通用后端光刻的需求不斷增長,以...
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            岱美儀器技術服務(上海)有限公司

            岱美有限公司(DymekCompanyLtd,下面簡稱岱美)成立于1989年,是一間擁有多年經驗的性高科技設備分銷商,主要為數據存儲、半導體、光通訊、高校及研發中心提供各類測量設備、工序設備以及相應的技術支持,并與一些重要的客戶建立了長期合作的關系。自1989年創立至今,岱美的產品以及各類服務、解決方案廣泛地運用于香港,中國臺灣,中國大陸,泰國,菲律賓,馬來西亞及新加坡等地區。岱美在中國大陸地區主要銷售或提供技術支持的產品:晶圓鍵合機、納米壓印設備、紫外光刻機、涂膠顯影機、硅片清洗機、超薄晶圓處理設備、光學三維輪廓儀、硅穿孔TSV量測、非接觸式光學三坐標測量儀、薄膜厚度檢測儀、主動及被動式防震臺系統、應力檢測儀、電容式位移傳感器等。岱美重要合作伙伴包括有:n&kTechnology;Veecodi,Wyko,Dektak,IBE,IBD,MTI;Imago;4D;FirstNano;Gat...

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